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导  读：

dna是纳米技术中最常使用的建筑模块，通常被用来控制建造有序的纳米结构。在很大程度上，人们认为dna有望成为自下而上制造微型电子线路的基本模块。

现在，一组来自美国brigham young大学的科学家们把dna自组织技术同微制造印刷术结合起来，制造纳米通道、纳米线和纳米沟等结构。这项发现为目前光学印刷术所达不到的尺寸下的纳米加工开辟了新的路径。他们的成果发表在最新一期的《small》上。

研究人员adam woolley和héctor becerril发明了一种利用dna为模板来定义基底图案的方法。他们把dna在基底上排列整齐，再在上面沉积一层金属膜。dna分子起纳米蜡纸的作用，这样来在基底上定义一些小于10纳米的图案。由于金属膜以一定角度沉积，dna分子的投影来定义基底上图案的尺度，因此这种方法被研究人员称为“dna投影纳米印刷术”。

此后研究人员使用半导体工业中常用的活性气体等离子体对图案表面进行各向异性刻蚀，在基底上得到了高纵宽比的沟槽。这些沟槽可以在顶端密封，来形成连续的纳米通道；或者可以被化学功能化，作为沉积金属纳米线的模板。这些模板沟槽和制造出的纳米线横截面只有30纳米，并能被裁剪成小于10纳米。沟槽的确切尺寸可以通过改变沉积角度和沉积厚度来控制。

研究人员相信能够用表面对齐的dna分子来实现复杂图案到基底的转换。wooley说：“这项技术的特点是能利用dna形成图案，而并不需要dna保持其核酸结构不变。”他认为dna投影纳米印刷术能够应用在纳米流体通道和化学传感器领域。